Nanonex高分辨率光刻/对准器图片
Nanonex Lumina-200纳米压印主要特点
高分辨率光刻
高精度对准平台
先进的对准光学
间隙控制
用户友好的PC控制
占地面积小
具有成本效益的设计
背面对齐可选
应用领域：半导体器件 *微机电系统 *光电子学 *高级包装 *电力设备
纳米压印Nanonex高分辨率光刻/对准器技术参数
手册X-Y-?
带称重传感器的电动Z
移动范围： X和Y：1英寸
?：10度
Z：0.25英寸
掩膜加载能力
5”口罩标准
其他尺寸可选
基板装载能力
4”标准
其他尺寸可选
对准 模式：接近、柔和、硬
对准光学
分割栏 5倍物镜，1到7倍变焦
2个独立的手动X，Y，Z显微镜移动 精细粗调
Nanonex高分辨率光刻/对准器http://www.gaiascience.cn/SonList-2217443.html
https://www.chem17.com/st471196/erlist_2217443.html
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